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浅谈RCA湿法清洗
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浅谈RCA湿法清洗
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发表于 2020-1-16 10:56:27
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浅谈RCA湿法清洗
1.SPM3#液去污及部分金属
2.APM1#液去表面颗粒及金属杂质
3.HPM2#液去金属粒子
4.DHF去氧化层和金属粒子
5.去离子水冲洗
订制酸碱洗设备请联系:苏州晶淼半导体设备有限公司
联系电话:18936102713张静文
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