你的浏览器版本过低,可能导致网站不能正常访问!
为了你能正常使用网站功能,请使用这些浏览器。
chrome
firefox
safari
ie8及以上
ST
官网
STM32
中文官网
ST
全球论坛
登录/注册
首页
技术问答
话题
资源
创客秀
视频
标签
每日签到
STM32团队2
论坛吐槽优化专区
升级测试
ST意法半导体中文论坛
»
论坛
›
【休闲区】
›
签到区
›
浅谈RCA湿法清洗
返回列表
查看:
146
|
回复:
0
浅谈RCA湿法清洗
[复制链接]
szjm634097
szjm634097
当前离线
在线时间
0 小时
UID
3574352
ST金币
0
蝴蝶豆
0
注册时间
2020-1-9
2
主题
0
回帖
0
蝴蝶豆
新手上路
新手上路, 积分 6, 距离下一级还需 44 积分
最后登录
2020-1-16
收听TA
发消息
发表于 2020-1-16 10:56:27
|
显示全部楼层
|
阅读模式
a0a.1 32b0c
浅谈RCA湿法清洗
1.SPM3#液去污及部分金属
2.APM1#液去表面颗粒及金属杂质
3.HPM2#液去金属粒子
4.DHF去氧化层和金属粒子
5.去离子水冲洗
订制酸碱洗设备请联系:苏州晶淼半导体设备有限公司
联系电话:18936102713张静文
回复
使用道具
举报
返回列表
关于意法半导体
我们是谁
投资者关系
意法半导体可持续发展举措
创新与技术
招聘信息
联系我们
联系ST分支机构
寻找销售人员和分销渠道
社区
媒体中心
活动与培训
隐私策略
隐私策略
Cookies管理
行使您的权利
关注我们
微信公众号
手机版
快速回复
返回顶部
返回列表